Ydinpuolijohdelaitteiden, kuten etsauksen, ohutkalvon kasvatuksen, ionimplantaatioiden ja kemiallis-mekaanisen hiomisen (CMP) valmistajille laitteidensa ydin kilpailukyky ei sijaitse vain toiminnallisessa toteutuksessa, vaan myös kolmessa keskeisessä ulottuvuudessa: ensiksi, prosessin pitkän aikavälin vakaus; toiseksi, saman mallin laitteiden välinen korkea yhdenmukaisuus; ja kolmanneksi, keskeisten parametrien kyky vastustaa driftiä pitkäaikaisen käytön jälkeen.

Näiden ulottuvuuksien saavuttaminen riippuu suuresti todellisten virtatietojen tarkasta hankinnasta keskeisissä virtalähteiden ja kuormien piireissä—virtatiedot ovat suljetun silmukan säätelyn ja prosessivakauden varmistamisen perusta, ja korkeatarkkuusvirtasensorit ovat tämän perustan saavuttamisen ydinkomponentteja.