Para los fabricantes de equipos semiconductores clave como grabado, deposición de películas delgadas, implantación iónica y pulido químico-mecánico (CMP), la competitividad central de su equipo no solo radica en la implementación funcional, sino también en tres dimensiones clave: primero, la estabilidad a largo plazo del proceso; segundo, la alta consistencia entre equipos del mismo modelo; y tercero, la capacidad de los parámetros clave para resistir la deriva después de una operación prolongada.

El logro de estas dimensiones depende en gran medida de la adquisición precisa de datos de corriente real en los circuitos clave de suministro de energía y carga—los datos de corriente son la base para el control de circuito cerrado y la garantía de estabilidad del proceso, y los sensores de corriente de alta precisión son los componentes centrales para lograr esta base.