Voor fabrikanten van kern-halfgeleiderapparatuur zoals etsen, dunnefilm depositie, ionenimplantatie en chemisch-mechanisch polijsten (CMP) ligt de kerncompetitiviteit van hun apparatuur niet alleen in functionele implementatie, maar ook in drie belangrijke dimensies: ten eerste, de langetermijnstabiliteit van het proces; ten tweede, hoge consistentie tussen apparaten van hetzelfde model; en ten derde, het vermogen van cruciale parameters om drift te weerstaan na langdurige werking.

Het bereiken van deze dimensies is sterk afhankelijk van de nauwkeurige verwerving van echte stroomgegevens in de belangrijkste stroomtoevoer- en belastingscircuits—stroomgegevens vormen de basis voor gesloten regeling en processtabiliteitsborging, en hoogprecisie stroomsensoren zijn de kerncomponenten om deze basis te realiseren.